光刻胶和光刻机有什么区别
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区别在于光刻是通过光刻胶把电路印制在基板上,然后在进行下一步,而光刻机就是要行进光刻这一步骤的机器。主要原理是光刻机利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面,并要避免在硅片表面留下痕迹,需要在硅片表面涂上一层特殊的物质光刻胶。因此,光刻胶是光刻机研发的重要材料,而且它不止应用于芯片,在高端面板、模拟半导体、发光二极管、光电子器件以及光子器件上也广泛应用。
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区别在于光刻是通过光刻胶把电路印制在基板上,然后在进行下一步,而光刻机就是要行进光刻这一步骤的机器。主要原理是光刻机利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面,并要避免在硅片表面留下痕迹,需要在硅片表面涂上一层特殊的物质光刻胶。因此,光刻胶是光刻机研发的重要材料,而且它不止应用于芯片,在高端面板、模拟半导体、发光二极管、光电子器件以及光子器件上也广泛应用。
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